為半導(dǎo)體領(lǐng)域提供拋光清洗方案，安儲(chǔ)科技完成Pre-A輪融資

安儲(chǔ)科技有限公司（以下簡(jiǎn)稱“安儲(chǔ)科技”）宣布已完成Pre-A輪融資，本輪融資由中科創(chuàng)星領(lǐng)投，天匯資本、張家港智慧創(chuàng)投跟投。資金將用于產(chǎn)能擴(kuò)建與設(shè)備研發(fā)。

安儲(chǔ)科技成立于2020年，專注于先進(jìn)電子材料研發(fā)、生產(chǎn)和銷售，主營(yíng)產(chǎn)品為配方型功能電子化學(xué)品（如拋光液、清洗液， 濕法刻蝕液， 光刻膠剝離液等）以及電子特氣安全存儲(chǔ)負(fù)壓鋼瓶?jī)纱螽a(chǎn)品系列。

公司核心成員包括擁有國(guó)際知名材料企業(yè)多年研發(fā)、生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)的博士和專業(yè)人才，擁有多年先進(jìn)制程節(jié)點(diǎn)以及各種材料表面的拋光、清洗經(jīng)驗(yàn)，以成為中國(guó)領(lǐng)先的電子材料平臺(tái)為愿景，旨在為半導(dǎo)體領(lǐng)域提供更佳的拋光清洗方案以及更先進(jìn)的電子材料。

碳化硅作為寬禁帶半導(dǎo)體，適合高壓、大電流的應(yīng)用場(chǎng)景，近年來(lái)受到新能源汽車、光伏儲(chǔ)能等行業(yè)影響，市場(chǎng)增速極快，國(guó)內(nèi)碳化硅產(chǎn)業(yè)也在2021年～2022年得到迅速發(fā)展。但碳化硅襯底硬度高、脆性大，給拋光帶來(lái)了極大難度。而拋光后因其晶圓和機(jī)臺(tái)的清洗工藝流程更長(zhǎng)，也提高了碳化硅晶圓的制造成本。因此，目前碳化硅襯底的拋光液和清洗液由國(guó)際廠商主導(dǎo)，在國(guó)內(nèi)仍屬新興領(lǐng)域。

在碳化硅襯底拋光清洗上，安儲(chǔ)科技擁有拋光液、拋光后晶圓清洗液、拋光后機(jī)臺(tái)拋光墊清洗液全工藝環(huán)節(jié)耗材產(chǎn)品。與傳統(tǒng)方案相比，安儲(chǔ)科技的產(chǎn)品性能更加優(yōu)異，成本更具競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)。

在碳化硅襯底拋光液方面，目前Fujimi、Ferro、卡博特（Cabot）、圣戈班（Saint-Gobain）等國(guó)際廠商占據(jù)全球大部分市場(chǎng)，這些廠商普遍采用氧化鋁作為研磨顆粒。安儲(chǔ)科技則創(chuàng)新性的采用了金屬氧化物作為研磨顆粒，其ACTL-WS系列拋光液不僅擁有較高的拋光速率，同時(shí)可獲得低表面粗糙度，低缺陷的晶圓表面。而且拋光液可以循環(huán)使用，降低客戶使用成本。

拋光后的晶圓清洗液方面，晶圓表面殘留的高錳酸鉀、拋光粒子，碎屑等污染物，對(duì)碳化硅表面污染程度比硅更高。此外傳統(tǒng)的RCA工藝清洗流程長(zhǎng)，工藝要求高。安儲(chǔ)科技的WK系列清洗液是專為上述場(chǎng)景設(shè)計(jì)的配方類清洗液，使用一步清洗，縮減了清洗工藝，清洗效果好，能有效的去除晶圓表面有機(jī)物以及顆粒等污染物。

另外，碳化硅襯底拋光后機(jī)臺(tái)拋光墊清洗液方面，安儲(chǔ)科技開(kāi)發(fā)的PK系列拋光后機(jī)臺(tái)拋光墊清洗液可以有效的清洗拋光后殘留物，清洗性能優(yōu)異，清洗時(shí)間短，并可稀釋使用，降低客戶成本。

基于多年的半導(dǎo)體材料開(kāi)發(fā)經(jīng)驗(yàn)，在硅基制程CMP后清洗方面安儲(chǔ)科技也開(kāi)發(fā)了一系列清洗產(chǎn)品。 半導(dǎo)體制程中化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）后表面易產(chǎn)生研磨粒子，有機(jī)物，金屬離子等缺陷。需要通過(guò)特殊的功能性化學(xué)清洗減少缺陷，提高良率，這是芯片生產(chǎn)中必須的步驟。安儲(chǔ)科技開(kāi)發(fā)了系列PCMP拋光后清洗， 產(chǎn)品覆蓋130nm至5nm制程， 適用于不同材料拋光后的清洗， 比如銅， 鈷， 鎢以及氧化硅表面等。

在銅蝕刻液領(lǐng)域，韓國(guó)廠商占據(jù)主流地位，其難點(diǎn)在于保持錐角穩(wěn)定，以及槽式清洗時(shí)殘留殘?jiān)鼘?duì)溶液清洗性能的影響。安儲(chǔ)科技開(kāi)發(fā)的銅蝕刻液不含氟離子，環(huán)保安全，可精確控制對(duì)銅的蝕刻速率以及刻蝕角度，沒(méi)有倒角，并且無(wú)殘?jiān)鼩埩簦a(chǎn)品擁有更長(zhǎng)的使用壽命，在較高銅離子濃度下仍能保持優(yōu)異的蝕刻性能。

在高端光刻膠剝離液領(lǐng)域，多以進(jìn)口產(chǎn)品為主，其難點(diǎn)在于當(dāng)光刻膠厚度更大的時(shí)候，傳統(tǒng)光刻膠剝離液很難在其它接觸材料沒(méi)有損傷前提下，完全清除干凈。安儲(chǔ)科技高效低成本的配方型光阻剝離液能夠有效清除各種光刻膠，同時(shí)不蝕刻或侵蝕其它暴露材料，不僅適用于先進(jìn)半導(dǎo)體芯片，同時(shí)也適用于LCD、LED、平板顯示。

在電子特氣負(fù)壓存儲(chǔ)鋼瓶領(lǐng)域，美國(guó)英特格（Entegris）壟斷了全球85%以上的市場(chǎng)份額，國(guó)內(nèi)廠商相關(guān)產(chǎn)品大多自產(chǎn)自用。安儲(chǔ)科技開(kāi)發(fā)的電子特氣負(fù)壓存儲(chǔ)鋼瓶?jī)?nèi)裝多孔材料，具有高比表面積，對(duì)磷烷（PH3）和砷烷（AsH3）三氟化硼（BF3），四氟化鍺（GeF4）等電子特氣有著很高的吸附能力，并且儲(chǔ)存穩(wěn)定安全，不會(huì)影響氣體純度，釋放量高。經(jīng)過(guò)測(cè)試，產(chǎn)品在各項(xiàng)性能指標(biāo)方面已經(jīng)完全達(dá)到了進(jìn)口產(chǎn)品水平。