8月24日晚間，A股半導體設備龍頭中微公司發布了半年報。根據半年報，2021年上半年，中微公司實現營業收入13.39億元，同比增長36.82%，實現歸屬于上市公司股東凈利潤3.97億元，同比增長233.17%。

研發人均月薪增到5.5萬元

中微公司是國內刻蝕機龍頭，刻蝕是芯片制造的一個重要工藝，指的是利用化學途徑選擇性地移除芯片表面或表面覆蓋的薄膜。2004年，公司董事長尹志堯放棄美國百萬年薪，帶領15人小團隊回國創辦了中微。目前中微的設備已打入臺積電、中芯國際、意法半導體等制造和封測客戶。

2019年的招股書中，中微公司曾披露，因為開發出了與美國設備公司具有同等質量和相當規格的等離子體刻蝕設備并實現量產，美國商務部在 2015 年宣布解除了對我國等離子體刻蝕設備多年的出口管制。

與業績提升相對應的是，中微公司上半年加大了研發投入，開支2.86億元，相較去年同期增長38.1%。公司的研發人數也從去年同期的298人增加至348人。公司業績變好，員工也得到了加薪，半年報披露，研發人員平均薪資由去年同期的29.74萬元增長到33.17萬元，平均月薪達到5.5萬元。這個數字看著不錯，但與剛剛發半年報的騰訊相比，還有差距。根據騰訊半年報，騰訊員工上半年人均月薪7.8萬元。

研報披露已在進軍3nm工藝

通常來說，建設一座晶圓廠，70%的投資都主要用于購買設備。刻蝕設備、光刻設備、薄膜沉積設備是集成電路前道生產工藝中最重要的三類，在不少先進的晶圓廠，刻蝕設備在整體設備中的投資中能達到25%到30%，甚至在部分NAND閃存生產線上的投資接近50%。

中微公司稱，目前CCP刻蝕機已在5nm器件上實現量產，并在5納米以下器件的試生產上實現了突破性的進展。用于更小器件、厚度薄的軟材料的ICP刻蝕機則在高速發展階段。

目前，中微半導體的等離子體刻蝕設備已應用在國際一線客戶從65nm到14nm、7nm和5nm及其他先進的集成電路加工制造生產線及先進封裝生產線。公司2021年上半年刻蝕設備收入為8.58億元，較去年同期增長約83.79%，毛利率達到44.29%。

在研項目中披露，中微公司現在已經在進軍3nm工藝。目前已完成3nm刻蝕機Alpha原型機的設計、制造、測試及初步的工藝開發和評估。

從刻蝕機起家后，中微的產品線逐步拓展到MOCVD（薄膜沉積設備）和VOC凈化設備領域。上半年MOCVD設備營收2.19億元同比下降10.08%，但該項業務毛利率達到30.77%，較去年同期大幅提升。